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日本SENVEC 液體用巽物除去裝置 UDLS-1-1EE 介紹

更新時間:2025-06-25      瀏覽次數(shù):65

日本 SENVEC 液體用巽物除去裝置 UDLS-1-1EE 介紹

一、產(chǎn)品概述

日本 SENVEC 公司生產(chǎn)的液體用巽物除去裝置 UDLS-1-1EE 是一款專門用于去除液體中微小顆粒和雜質(zhì)的高效設(shè)備。該裝置廣泛應用于電子、半導體、醫(yī)藥、食品等行業(yè),對于提高產(chǎn)品質(zhì)量、確保工藝穩(wěn)定性具有重要意義。

二、產(chǎn)品特點

(一)高精度過濾

  • 過濾精度:UDLS-1-1EE 采用先進的過濾技術(shù),能夠有效去除液體中的微小顆粒,過濾精度可達亞微米級別。這對于半導體制造等對水質(zhì)要求極的高的行業(yè)至關(guān)重要,可以有效防止微小顆粒對芯片制造工藝的影響。
  • 多級過濾系統(tǒng):設(shè)備內(nèi)部設(shè)計有多級過濾結(jié)構(gòu),通過不同孔徑的濾網(wǎng)或濾芯,逐步去除液體中的大顆粒和微小顆粒雜質(zhì),確保過濾效果的穩(wěn)定性和可靠性。

(二)高效處理能力

  • 大流量處理:UDLS-1-1EE 設(shè)計有大流量的處理通道,能夠滿足工業(yè)生產(chǎn)中大量液體的快速過濾需求。其處理能力可以根據(jù)不同的應用場景進行定制,確保在高流量下仍能保持穩(wěn)定的過濾性能。
  • 快速更換濾芯:設(shè)備采用了易于更換的濾芯設(shè)計,更換濾芯時無需復雜的操作,大大縮短了設(shè)備維護時間,提高了生產(chǎn)效率。同時,快速更換濾芯的設(shè)計也降低了因濾芯更換不及時而導致的液體污染風險。

(三)智能控制系統(tǒng)

  • 自動化控制:配備先進的自動化控制系統(tǒng),能夠?qū)崟r監(jiān)測液體的過濾狀態(tài),包括流量、壓力、過濾精度等參數(shù)。系統(tǒng)可以根據(jù)預設(shè)的參數(shù)自動調(diào)整過濾過程,確保過濾效果始終處于最佳狀態(tài)。
  • 遠程監(jiān)控與診斷:通過網(wǎng)絡連接,操作人員可以在遠程終端上實時監(jiān)控設(shè)備的運行狀態(tài),并進行遠程診斷和故障排除。這不僅提高了設(shè)備的管理效率,還減少了因設(shè)備故障導致的生產(chǎn)中斷風險。

(四)可靠性與耐用性

  • 高品質(zhì)材料:UDLS-1-1EE 的主要部件采用高品質(zhì)的不銹鋼等耐腐蝕材料制造,具有良好的耐化學腐蝕性和機械強度。這使得設(shè)備能夠在各種惡劣的工業(yè)環(huán)境下長期穩(wěn)定運行,減少了設(shè)備的維護成本。
  • 緊湊設(shè)計:設(shè)備采用緊湊的設(shè)計理念,占地面積小,安裝方便。其緊湊的結(jié)構(gòu)不僅節(jié)省了空間,還便于與其他生產(chǎn)設(shè)備集成,提高了整個生產(chǎn)系統(tǒng)的布局靈活性。

三、應用領(lǐng)域

(一)電子與半導體行業(yè)

在電子和半導體制造過程中,液體的純度對產(chǎn)品質(zhì)量和良品率有著至關(guān)重要的影響。UDLS-1-1EE 可以有效去除光刻膠、清洗液、蝕刻液等液體中的微小顆粒和雜質(zhì),確保這些液體在使用過程中不會對芯片制造工藝造成污染,從而提高芯片的性能和可靠性。

(二)醫(yī)藥行業(yè)

醫(yī)藥生產(chǎn)中,藥品的純度和質(zhì)量直接關(guān)系到患者的健康和安全。UDLS-1-1EE 可用于去除注射液、藥劑等液體中的微小顆粒和雜質(zhì),確保藥品的純度和質(zhì)量符合嚴格的藥品生產(chǎn)標準,保障患者的用藥安全。

(三)食品行業(yè)

食品加工過程中,液體的純凈度也非常重要。UDLS-1-1EE 可以應用于飲料、乳制品等液體食品的生產(chǎn)中,去除液體中的雜質(zhì)和微生物,確保食品的口感和質(zhì)量,同時延長食品的保質(zhì)期。

四、技術(shù)規(guī)格

(一)過濾精度

  • 最小過濾精度:0.1μm
  • 最大過濾精度:5μm(可根據(jù)需求定制)

(二)處理流量

  • 最大處理流量:100L/min(可根據(jù)需求定制)

(三)工作壓力

  • 最大工作壓力:1.0MPa

(四)工作溫度

  • 工作溫度范圍:5℃ - 60℃

(五)電源要求

  • 電源電壓:220V/50Hz
  • 功率消耗:1.5kW

五、安裝與維護

(一)安裝

  • 安裝位置:應選擇在通風良好、無腐蝕性氣體、無強磁場干擾的環(huán)境中。設(shè)備應安裝在水平的地面上,確保設(shè)備運行時的穩(wěn)定性。
  • 管道連接:設(shè)備的進液口和出液口應與液體輸送管道正確連接,確保液體能夠順暢地進入和流出設(shè)備。在連接管道時,應注意管道的密封性,防止液體泄漏。
  • 電氣連接:按照設(shè)備的電氣接線圖進行接線,確保電源連接正確無誤。在接線過程中,應遵循相關(guān)的電氣安全規(guī)范,確保設(shè)備的電氣安全。

(二)維護

  • 定期更換濾芯:根據(jù)液體的污染程度和設(shè)備的運行時間,定期更換濾芯。一般建議每 3 - 6 個月更換一次濾芯,以確保過濾效果的穩(wěn)定性和可靠性。
  • 清潔設(shè)備:定期對設(shè)備的外殼和內(nèi)部進行清潔,去除灰塵和污垢。清潔時,應使用柔軟的布料和中性清潔劑,避免使用腐蝕性清潔劑對設(shè)備造成損壞。
  • 檢查密封件:定期檢查設(shè)備的密封件,如密封圈、密封墊等,確保其密封性能良好。如果發(fā)現(xiàn)密封件有老化、損壞等情況,應及時更換,防止液體泄漏。
  • 系統(tǒng)檢查:定期對整個過濾系統(tǒng)進行檢查,包括管道、閥門、控制系統(tǒng)等部件,確保系統(tǒng)的正常運行。檢查時,應特別注意管道的連接是否牢固,閥門的開關(guān)是否靈活,控制系統(tǒng)的參數(shù)設(shè)置是否正確等。

六、案例分析

以某半導體制造企業(yè)為例,該企業(yè)在芯片制造過程中使用的清洗液中含有大量微小顆粒雜質(zhì),嚴重影響了芯片的良品率。為了解決這一問題,企業(yè)引入了日本 SENVEC 的 UDLS-1-1EE 液體用巽物除去裝置。通過安裝和調(diào)試后,UDLS-1-1EE 成功地將清洗液中的微小顆粒去除,過濾后的清洗液純度顯著提高。經(jīng)過一段時間的運行,企業(yè)發(fā)現(xiàn)芯片的良品率提高了 15%,同時設(shè)備的維護成本也有所降低。這一案例充分證明了 UDLS-1-1EE 在提高液體純度、保障產(chǎn)品質(zhì)量方面的卓的越性能。

七、總結(jié)

日本 SENVEC 液體用巽物除去裝置 UDLS-1-1EE 是一款性的能的卓的越、應用廣泛的液體過濾設(shè)備。其高精度過濾、高效處理能力、智能控制系統(tǒng)以及可靠耐用的特點,使其在電子、半導體、醫(yī)藥、食品等行業(yè)中得到了廣泛的應用。通過合理安裝和維護,UDLS-1-1EE 能夠為企業(yè)提供穩(wěn)定可靠的液體過濾解決方案,提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率,為企業(yè)創(chuàng)造更大的經(jīng)濟效益。


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